광반응 반응기 내부의 에너지 분포와 라디칼 생성에 대한 연구

Abstract

본 연구에서는 광 반응기 내부의 영향반경을 평가하기 위해 자외선(UV-C) 램프의 강도와 photochemical에 의한 OH 라디칼 생성량을 측정하였다. 또한 TiO2 (Degussa P-25)를 농도별로 첨가하여 자외선 램프의 영향반경을 측정하였다. 광 반응기는 아크릴 재질의 bath 타입을 사용하였고, 254nm의 파장을 가진 UV-C 자외선 램프를(SANKYO DENKI, 지름 : 2.2cm, 길이 : 18.5cm) 사용하였다. 램프의 소비전력은 10.5W이고, OH 라디칼 생성량을 측정하기 위해 KI dosimetry를 사용하였다. 실험결과로부터 광 반응기에서 자외선의 강도가 0.367mW/㎠ 이상 조사되어야하고, 거리는 13cm 이내에서 OH 라디칼 생성에 영향을 미치는 것으로 나타났다. 또한 광촉매 반응기에서는 촉매의 농도로 인해 자외선의 영향반경이 매우 감소하는 것을 확인 할 수 있었다.