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Simulation and modeling of electron-beam lithography for delineating 0.2-um line and space patterns
- 제목
- Simulation and modeling of electron-beam lithography for delineating 0.2-um line and space patterns
- 저자
- Suh, Taeweon
- 학회명
- SPIE
- 개최국가
- 미국
- 학회 개최일
- 1996-05-13 ~ 1996-05-15