광반응 반응기 내부의 에너지 분포와 라디칼 생성에 대한 연구

Evaluation of Hydroxyl radical Formation and Energy Distribution in Photolysis Reactor
  • 남상건
  • 황안나
  • 조상현
  • 임명희
  • 김지형

초록

본 연구에서는 광 반응기 내부의 영향반경을 평가하기 위해 자외선(UV-C) 램프의 강도와 photochemical에 의한 OH 라디칼 생성량을 측정하였다. 또한 TiO2 (Degussa P-25)를 농도별로 첨가하여 자외선 램프의 영향반경을 측정하였다. 광 반응기는 아크릴 재질의 bath 타입을 사용하였고, 254nm의 파장을 가진 UV-C 자외선 램프를(SANKYO DENKI, 지름 : 2.2cm, 길이 : 18.5cm) 사용하였다. 램프의 소비전력은 10.5W이고, OH 라디칼 생성량을 측정하기 위해 KI dosimetry를 사용하였다. 실험결과로부터 광 반응기에서 자외선의 강도가 0.367mW/㎠ 이상 조사되어야하고, 거리는 13cm 이내에서 OH 라디칼 생성에 영향을 미치는 것으로 나타났다. 또한 광촉매 반응기에서는 촉매의 농도로 인해 자외선의 영향반경이 매우 감소하는 것을 확인 할 수 있었다.

키워드

광반응광촉매반응자외선반응기고도산화처리공정photolysisphotocatalysisultravioletreactorAdvanced Oxidation ProcessphotolysisphotocatalysisultravioletreactorAdvanced Oxidation Process
제목
광반응 반응기 내부의 에너지 분포와 라디칼 생성에 대한 연구
제목 (타언어)
Evaluation of Hydroxyl radical Formation and Energy Distribution in Photolysis Reactor
저자
남상건황안나조상현임명희김지형
발행일
2011
저널명
한국방재학회논문집
11
2
페이지
179 ~ 183