RPC background studies at CMS experiment

Carnevali, F.; Samalan, A.; Tytgat, M.; El Sawy, M.; Alves, G. A.; Marujo, F.; Coelho, E. A.; Da Costa, E. M.; Nogima, H.; Santoro, A.; De Souza, S. Fonseca; Damiao, D. De Jesus; Thiel, M.; Amarilo, K. Mota; Filho, M. Barroso Ferreira; Aleksandrov, A.; Hadjiiska, R.; Iaydjiev, P.; Rodozov, M.; Shopova, M.; Soultanov, G.; Dimitrov, A.; Litov, L.; Pavlov, B.; Petkov, P.; Petrov, A.; Shumka, E.; Qian, S. J.; Kou, H.; Liu, Z. -A.; Zhao, J.; Song, J.; Hou, Q.; Diao, W.; Cao, P.; Avila, C.; Barbosa, D.; Cabrera, A.; Florez, A.; Fraga, J.; Reyes, J.; Assran, Y.; Mahmoud, M. A.; Mohammed, Y.; Crotty, I.; Laktineh, I.; Grenier, G.; Gouzevitch, M.; Mirabito, L.; Shchablo, K.; Bagaturia, I.; Lomidze, I.; Tsamalaidze, Z.; Amoozegar, V.; Boghrati, B.; Ebraimi, M.; Najafabadi, M. Mohammadi; Zareian, E.; Abbrescia, M.; Iaselli, G.; Pugliese, G.; Loddo, F.; De Filippis, N.; Aly, R.; Ramos, D.; Elmetenawee, W.; Leszki, S.; Margjeka, I.; Paesani, D.; Benussi, L.; Bianco, S.; Piccolo, D.; Meola, S.; Buontempo, S.; Lista, L.; Paolucci, P.; Fienga, F.; Braghieri, A.; Salvini, P.; Montagna, P.; Riccardi, C.; Vitulo, P.; Asilar, E.; Choi, J.; Kim, T. J.; Choi, S. Y.; Hong, B.; Lee, K. S.; Oh, H. Y.; Goh, J.; Yu, I.; Estrada, C. Uribe; Pedraza, I.; Castilla-Valdez, H.; Sanchez-Hernandez, A.; Fernandez, R. L.; Ramirez-Garcia, M.; Vazquez, E.; Shah, M. A.; Zaganidis, N.; Radi, A.; Hoorani, H.; Muhammad, S.; Ahmad, A.; Asghar, I.; Khan, W. A.; Eysermans, J.; De Araujo, F. Torres Da Silva; Verwilligen, P.; Cavallo, F. R.; Mei, H.

doi:10.1016/j.nima.2023.168266

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RPC background studies at CMS experiment

Carnevali, F.;
Samalan, A.;
Tytgat, M.;
El Sawy, M.;
Alves, G. A.;
... Hong, B.;
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초록

During Run2 the high instantaneous luminosity, up to 2.2 1034 cm-2 s-1, lead to a substantial hit rate in the Compact Muon Solenoid experiment's muon chambers due to multiple background sources to physics processes sought for at LHC. In this article we will describe the analysis method devised to measure and identify the contributions to such background in the Resistive Plate Chambers. Thorough understanding of the background rates provides the base for the upgrade of the muon detectors for the High-Luminosity LHC.

키워드

CMS; RPC; LHC; Background; Muon system

제목: RPC background studies at CMS experiment

저자: Carnevali, F.; Samalan, A.; Tytgat, M.; El Sawy, M.; Alves, G. A.; Marujo, F.; Coelho, E. A.; Da Costa, E. M.; Nogima, H.; Santoro, A.; De Souza, S. Fonseca; Damiao, D. De Jesus; Thiel, M.; Amarilo, K. Mota; Filho, M. Barroso Ferreira; Aleksandrov, A.; Hadjiiska, R.; Iaydjiev, P.; Rodozov, M.; Shopova, M.; Soultanov, G.; Dimitrov, A.; Litov, L.; Pavlov, B.; Petkov, P.; Petrov, A.; Shumka, E.; Qian, S. J.; Kou, H.; Liu, Z. -A.; Zhao, J.; Song, J.; Hou, Q.; Diao, W.; Cao, P.; Avila, C.; Barbosa, D.; Cabrera, A.; Florez, A.; Fraga, J.; Reyes, J.; Assran, Y.; Mahmoud, M. A.; Mohammed, Y.; Crotty, I.; Laktineh, I.; Grenier, G.; Gouzevitch, M.; Mirabito, L.; Shchablo, K.; Bagaturia, I.; Lomidze, I.; Tsamalaidze, Z.; Amoozegar, V.; Boghrati, B.; Ebraimi, M.; Najafabadi, M. Mohammadi; Zareian, E.; Abbrescia, M.; Iaselli, G.; Pugliese, G.; Loddo, F.; De Filippis, N.; Aly, R.; Ramos, D.; Elmetenawee, W.; Leszki, S.; Margjeka, I.; Paesani, D.; Benussi, L.; Bianco, S.; Piccolo, D.; Meola, S.; Buontempo, S.; Lista, L.; Paolucci, P.; Fienga, F.; Braghieri, A.; Salvini, P.; Montagna, P.; Riccardi, C.; Vitulo, P.; Asilar, E.; Choi, J.; Kim, T. J.; Choi, S. Y.; Hong, B.; Lee, K. S.; Oh, H. Y.; Goh, J.; Yu, I.; Estrada, C. Uribe; Pedraza, I.; Castilla-Valdez, H.; Sanchez-Hernandez, A.; Fernandez, R. L.; Ramirez-Garcia, M.; Vazquez, E.; Shah, M. A.; Zaganidis, N.; Radi, A.; Hoorani, H.; Muhammad, S.; Ahmad, A.; Asghar, I.; Khan, W. A.; Eysermans, J.; De Araujo, F. Torres Da Silva; Verwilligen, P.; Cavallo, F. R.; Mei, H.

DOI: 10.1016/j.nima.2023.168266

발행일: 2023-07

유형: Article

저널명: Nuclear Instruments and Methods in Physics Research, Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment

권: 1052

언어: ENG

출판사: ELSEVIER

발행국가: 네덜란드

ISSN: E 1872-9576
P 0168-9002