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In-Situ Phosphorus Doping Effect on Si0.8Ge0.2 Epitaxial Growth by Ultraclean LPCVD

  • Sung, Man Young
제목
In-Situ Phosphorus Doping Effect on Si0.8Ge0.2 Epitaxial Growth by Ultraclean LPCVD
저자
Sung, Man Young
학회명
제5회 한국 반도체 학술대회 논문집
개최지
제5회 한국 반도체 학술대회 논문집
학회 개최일
1998-02-25

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