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BCl3-NH3-Ar계와 high-frequency plasma assisted CVD로 합성한 질화붕소막의 대기중에서의 안정성

  • CHOI, In-Hoon
제목
BCl3-NH3-Ar계와 high-frequency plasma assisted CVD로 합성한 질화붕소막의 대기중에서의 안정성
저자
CHOI, In-Hoon
발행일
1999-04-01

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