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O2 / Ar 플라즈마를 이용한 구리호일 표면 개질에 관한 연구

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dc.contributor.author이종찬-
dc.contributor.author손진영-
dc.contributor.author김문근-
dc.contributor.author권광호-
dc.contributor.author이현우-
dc.date.accessioned2021-09-06T07:05:42Z-
dc.date.available2021-09-06T07:05:42Z-
dc.date.created2021-06-17-
dc.date.issued2013-
dc.identifier.issn1226-7945-
dc.identifier.urihttps://scholar.korea.ac.kr/handle/2021.sw.korea/104870-
dc.description.abstract본 연구는 구리호일의 표면 특성 향상을 위한 연구로, O2/Ar 유도결합 플라즈마에서 O2 가스의 비율을 0∼100%까지 조절하여 사용하였다. 플라즈마 처리 후, 구리호일의 표면 분석을 위해 구리호일의 표면 거칠기, 표면 접촉각, 표면 에너지를 측정하였다. 그 결과로 표면 거칠기와 표면 에너지 모두 증가한 것을 확인하였다. 그리고 플라즈마 분석은 이중탐침법(DLP)과 광학적발광분광법(OES)을 통해 수행하였다. 이러한 결과들을 통해 구리호일의 플라즈마 표면 개질 메커니즘을 조사하였다.-
dc.languageKorean-
dc.language.isoko-
dc.publisher한국전기전자재료학회-
dc.titleO2 / Ar 플라즈마를 이용한 구리호일 표면 개질에 관한 연구-
dc.title.alternativeA Study on the Surface Modification Mechanism of Copper Foil Using O2 / Ar Plasma-
dc.typeArticle-
dc.contributor.affiliatedAuthor권광호-
dc.identifier.doi10.4313/JKEM.2013.26.11.836-
dc.identifier.bibliographicCitation전기전자재료학회논문지, v.26, no.11, pp.836 - 840-
dc.relation.isPartOf전기전자재료학회논문지-
dc.citation.title전기전자재료학회논문지-
dc.citation.volume26-
dc.citation.number11-
dc.citation.startPage836-
dc.citation.endPage840-
dc.type.rimsART-
dc.identifier.kciidART001818315-
dc.description.journalClass2-
dc.description.journalRegisteredClasskci-
dc.subject.keywordAuthorCopper foil-
dc.subject.keywordAuthorRoughness-
dc.subject.keywordAuthorSurface energy-
dc.subject.keywordAuthorPlasma-
dc.subject.keywordAuthorO2-
dc.subject.keywordAuthorAr-
dc.subject.keywordAuthorDLP-
dc.subject.keywordAuthorOES-
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