마이크로미터 크기의 유기 전계 효과 트랜지스터 제작
DC Field | Value | Language |
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dc.contributor.author | 박성찬 | - |
dc.contributor.author | 허정환 | - |
dc.contributor.author | 김규태 | - |
dc.contributor.author | 하정숙 | - |
dc.date.accessioned | 2021-09-07T18:25:40Z | - |
dc.date.available | 2021-09-07T18:25:40Z | - |
dc.date.created | 2021-06-17 | - |
dc.date.issued | 2011 | - |
dc.identifier.issn | 1225-8822 | - |
dc.identifier.uri | https://scholar.korea.ac.kr/handle/2021.sw.korea/113983 | - |
dc.description.abstract | 본 연구에서는 기존 실리콘 반도체 기술 기반의 포토 및 이빔 리소그래피 공정을 통하여 유기 반도체 소자를 패터닝하였다. P3HT나 PEDOT 등의 유기 반도체는 용매에 녹기 때문에 MIMIC (micro-molding in capillaries)이나 inkjet printing 기술을 이용하여 마이크로미터 크기의 소자 제작이 가능하였으나, 펜타신은 용매에 녹지 않기 때문에 매우 복잡한 방법으로 마이크로미터 크기의 소자를 제작하여왔다. 그러나, 본 연구에서는 원자층 증착 방법으로 증착한 산화 알루미늄막을 펜타신의 보호층으로 이용하여 기존의 포토 및 이빔 리소그래피 방법으로 마이크로미터크기의 펜타신 소자를 제작하였으며 그 전기 특성을 확인하였다. | - |
dc.language | Korean | - |
dc.language.iso | ko | - |
dc.publisher | 한국진공학회 | - |
dc.title | 마이크로미터 크기의 유기 전계 효과 트랜지스터 제작 | - |
dc.title.alternative | Fabrication of Micron-sized Organic Field Effect Transistors | - |
dc.type | Article | - |
dc.contributor.affiliatedAuthor | 하정숙 | - |
dc.identifier.bibliographicCitation | Applied Science and Convergence Technology, v.20, no.1, pp.63 - 69 | - |
dc.relation.isPartOf | Applied Science and Convergence Technology | - |
dc.citation.title | Applied Science and Convergence Technology | - |
dc.citation.volume | 20 | - |
dc.citation.number | 1 | - |
dc.citation.startPage | 63 | - |
dc.citation.endPage | 69 | - |
dc.type.rims | ART | - |
dc.identifier.kciid | ART001522038 | - |
dc.description.journalClass | 2 | - |
dc.description.journalRegisteredClass | kci | - |
dc.subject.keywordAuthor | 펜타신 | - |
dc.subject.keywordAuthor | 유기전계효과트랜지스터 | - |
dc.subject.keywordAuthor | 리소그래피 | - |
dc.subject.keywordAuthor | 원자층 증착 방법 | - |
dc.subject.keywordAuthor | 산화 알루미늄막 | - |
dc.subject.keywordAuthor | Pentacene | - |
dc.subject.keywordAuthor | OFET | - |
dc.subject.keywordAuthor | Lithography | - |
dc.subject.keywordAuthor | Atomic layer deposition technique | - |
dc.subject.keywordAuthor | Al_2O_3 passivation layer | - |
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