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CHE 주입방법과 기판 순바이어스를 이용한 새로운 고온 전자 주입방법의 프로그램 효율성 비교에 관한 연구A Study on The Comparison of The Program Efficiency in The Conventional CHE Injection Method and a novel Hot Electron Injection Method Using A Substrate forward Bias

Other Titles
A Study on The Comparison of The Program Efficiency in The Conventional CHE Injection Method and a novel Hot Electron Injection Method Using A Substrate forward Bias
Authors
장영걸안호명김희동김태근
Issue Date
2010
Publisher
대한전자공학회
Keywords
Novel program method; substrate forward bias; multi-bit SONOS
Citation
전자공학회논문지 - SD, v.47, no.1, pp.1 - 5
Indexed
KCI
Journal Title
전자공학회논문지 - SD
Volume
47
Number
1
Start Page
1
End Page
5
URI
https://scholar.korea.ac.kr/handle/2021.sw.korea/118053
ISSN
1229-6368
Abstract
본 논문에서는, SONOS 소자에서의 일반적인 CHE(Channel Hot Electron) 주입 방법과 기판 순바이어스를 이용한 새로운 전자 주입 방법의 프로그램 효율성에 대해 직접 비교하였다. 기존의 CHE 주입 방법과 비교해서, 새로운 전자 주입 방법은 낮은 구동전압, 빠른 프로그램 속도 등의 특성을 포함하여 높은 프로그램효율을 보였으며, 또한 드레인 영역에서의 순방향 읽기와 역방향 읽기의 문턱전압 차이가 1 V 가량 발생한다는 점에서 국소 주입 동작이 가능함을 확인하였다. 이렇게 제안된 전자 주입 방법은 차세대 나노 크기 멀티-비트 SONOS 소자의 동작에 매우 유용하게 사용될 것으로 기대된다.
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College of Engineering > School of Electrical Engineering > 1. Journal Articles

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Kim, Tae geun
공과대학 (전기전자공학부)
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