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Cu(dmamb)2 를 사용한 copper seed layer의 CVD 성장시 plasma 전처리의 영향에 관한 연구

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dc.contributor.authorBYUN, Dong Jin-
dc.date.accessioned2021-08-29T17:43:19Z-
dc.date.available2021-08-29T17:43:19Z-
dc.date.created2021-04-22-
dc.date.issued2013-05-23-
dc.identifier.urihttps://scholar.korea.ac.kr/handle/2021.sw.korea/44257-
dc.publisher한국재료학회-
dc.titleCu(dmamb)2 를 사용한 copper seed layer의 CVD 성장시 plasma 전처리의 영향에 관한 연구-
dc.title.alternativeCu(dmamb)2 를 사용한 copper seed layer의 CVD 성장시 plasma 전처리의 영향에 관한 연구-
dc.typeConference-
dc.contributor.affiliatedAuthorBYUN, Dong Jin-
dc.identifier.bibliographicCitation2013년도 한국재료학회 춘계학술발표대회 및 제 24 회 신소재 심포지엄-
dc.relation.isPartOf2013년도 한국재료학회 춘계학술발표대회 및 제 24 회 신소재 심포지엄-
dc.relation.isPartOf2013년도 한국재료학회 춘계학술발표대회 및 제 24 회 신소재 심포지엄-
dc.citation.title2013년도 한국재료학회 춘계학술발표대회 및 제 24 회 신소재 심포지엄-
dc.citation.conferencePlaceKO-
dc.citation.conferenceDate2013-05-22-
dc.type.rimsCONF-
dc.description.journalClass2-
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College of Engineering > Department of Materials Science and Engineering > 2. Conference Papers

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BYUN, Dong Jin
공과대학 (신소재공학부)
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